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| 英文名稱： |
Test method for thickness and total thickness variation of silicon wafers for solar cell |
 中標分類： |
冶金>>金屬理化性能試驗方法>>H21金屬物理性能試驗方法 |
| ICS分類： |
冶金>>77.040金屬材料試驗 |
| 發(fā)布部門： |
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會 |
| 發(fā)布日期： |
2014-07-24 |
| 實施日期： |
2015-02-01
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| 提出單位： |
全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會(SAC/TC203)及材料分技術(shù)委員會(SAC/TC203/SC2) |
| 歸口單位： |
全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會(SAC/TC203)及材料分技術(shù)委員會(SAC/TC203/SC2) |
| 起草單位： |
東方電氣集團峨嵋半導體材料有限公司、有研半導體材料股份有限公司、樂山新天源太陽能科技有限公司、青洋電子材料有限公司 |
| 起草人： |
何紫軍、馮地直、程宇、黎陽、陳琳、荊旭華、劉卓 |
| 出版社： |
中國標準出版社 |