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標準編號：GB/T 16879-1997	標準狀態(tài)：現(xiàn)行

標準價格：33.0 元	客戶評分：

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標準簡介

本準則規(guī)定了在表示掩模曝光設(shè)備的精密度和準確度時應(yīng)遵循的一般要求。掩模曝光設(shè)備的圖形曝光精密度和準確度是通過測量制成的掩模來評估的，掩膜制造過程中的工藝條件對它有很大影響。所以，曝光條件應(yīng)經(jīng)廠家和用戶雙方同意。


英文名稱：	Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
中標分類：	電子元器件與信息技術(shù)>>電子工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備>>L97加工專用設(shè)備
ICS分類：	電子學>>31.020電子元件綜合
采標情況：	SEMI P21-1992,IDT
發(fā)布部門：	國家技術(shù)監(jiān)督局
發(fā)布日期：	1997-06-20
實施日期：	1998-03-01
首發(fā)日期：	1997-06-20
復(fù)審日期：	2004-10-14
歸口單位：	全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標準化技術(shù)委員會
主管部門：	國家標準化管理委員會
起草單位：	中國科學院微電子中心
頁數(shù)：	平裝16開，頁數(shù)：9，字數(shù)：12千字
出版社：	中國標準出版社
書號：	155066.1-14348
出版日期：	2004-04-11
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加工專用設(shè)備相關(guān)標準	第1頁第2頁第3頁第4頁第5頁更多>>
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