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| 英文名稱(chēng)： |
Positive photoresist developer for semiconductor manufacture |
 中標(biāo)分類(lèi)： |
電子元器件與信息技術(shù)>>電子設(shè)備專(zhuān)用材料、零件、結(jié)構(gòu)件>>L90電子技術(shù)專(zhuān)用材料 |
| ICS分類(lèi)： |
31.030 |
| 發(fā)布部門(mén)： |
中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì) |
| 發(fā)布日期： |
2022-04-20 |
| 實(shí)施日期： |
2022-07-20
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| 提出單位： |
中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì) |
| 歸口單位： |
中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì) |
| 起草單位： |
杭州格林達(dá)電子材料股份有限公司 |
| 起草人： |
邢攸美、李瀟逸、張之鈞、趙健、胡濤、李盈盈、陳東良、顧峻、徐文干、孫煒、劉新雨、王琪、周利超、李林佳、余紅剛、倪蕓嵐、陳海剛、楊小平、章帥迪、劉永南、姚藝融、劉為波、翁雪平、傅華、高小云 |
| 頁(yè)數(shù)： |
16頁(yè) |
| 出版社： |
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社 |